ASML 透过 High-NA EUV 光刻机最新进展：目标 2024-2025 年进厂

的实质性，现阶段早就开始在我们坐落于维尔德霍芬的新无尘空间中时会打造出第一个 High-NA 蚀刻”，“在近期，我们发来了多份 EXE:5200 系统设计的订货。我们这个月末也还发来额外的 EXE:5200 订货。我们现阶段已有来自三个逻辑微处理器和两个存储微处理器买家的 High-NA 订货。EXE:5200 是 ASML 的这一代高 NA 系统设计，将为蚀刻关键技术的性能和生棉力提供下一步的发展。”

ASML 的 Twinscan EXE:5200 比普通的 Twinscan NXE:3400C 驱动器要复杂得多，因此打造出这些驱动器也无需来得长的整整。该该公司借此在下一代中时会期尽可能交付可用 20 套 High-NA 系统设计，这也许意味着其买家将不愿进行竞争。

“我们也在与我们的市场营销两兄弟争辩，以保证中时会期差不多 20 个 EUV 0.55NA 系统设计的交付可用能力，”Wennink 说。

到现阶段为止，唯一认定可用 ASML High-NA 蚀刻机的是AMD 18A 路由表，AMD研发计划在 2025 年进到大批量生棉，而 ASML 也是差不多在那时开始交付可用其 High-NA EUV 系统设计。但在在AMD早就将其 18A 的生棉规划推迟到 2024 年月底，并坚称可以可用 ASML 的 Twinscan NXE:3600D 或 NXE:3800E 来生棉，也许是通过多重揭露模结构设计。

从这一点来看，AMD的 18A 关键技术无论如何时会大幅得益于于 High-NA EUV 物件，但也并非完全离不开 Twinscan EXE:5200 驱动器。在商言商，虽然 18A 不一定无需新驱动器，但多重揭露模结构设计意味着来得长的棉品天数、来得较差的棉显现出、来得高的高风险、来得较差的收益率，和来得难于的竞争。所以，AMD负责任也借此它的 18A 路由表尽更快到来，从而复刻往日往昔，好从摩托罗拉手中时会攻下曾经的发言权。

《每台意义 4 亿美元：ASML 正研发设计的这一代 High-NA 蚀刻机未来将时会于 2023 年月底亮相》

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