ASML新一代EUV光刻机攀升至27亿元

据路透社美联社，积体电路电子设备巨头ASML的一代High-NA EUV电子设备价钱共约4亿美元，总值27亿韩圆。据称该电子设备稳定度更高、所用到的原材料更多，机种比上一代大出30%，一般来说如同双层巴士于。

为克服系统设计挑战，ASML正与全世界最大的微电子研制出行政部门IMEC主导建立测试实验室。据称，ASML原型机将在2023年上半年收尾。

ASML实质上表示，2021年下半年已寄送5个预定High-NA EUV的订单。

瑞典的ASML美国公司是全世界光刻机各个领域的赫赫有名，也是全世界唯一主营极紫外光微影系统设计光刻机的美国公司。ASML推进的High-NA 曝光系统设计正是延续更进一步的关键所在。

芯片先进设备手工实现的关键在于制造者芯片的积体电路电子设备，光刻机是积体电路电子设备中维护费用最高、成本高最大的电子设备。近期积体电路的手工晶圆已经推进到3薄膜，台积电正在向1薄膜冲击。而要实现这些先进设备手工，则离不开高端的光刻机。

在全世界代工各个领域，台积电、摩托罗拉是全世界唯二的两家在先进设备手工晶圆厮杀的积体电路制造者巨头，ASML高端光刻机也是和解未来一比高下的武器。不难判别，台积电、摩托罗拉是ASML该高端光刻机的率先零售商。

（文稿/七七）