【干货分享】锂离子失效原因里,极片涂布工艺占10%
2023-02-27 来源 : 社会
03
微表皮瑕疵及制约主因
微表皮不远处理过程里下降微表皮瑕疵,提更为高微表皮运动速度和良品率,降低成本是微表皮陶瓷需研究成果的以致于其重要内容。在微表皮工序经常显现的关键问题是头厚尾微、双侧厚边、不规则小点、表层坚硬、露大块等瑕疵。尾端宽度度可以通过微表皮阀或时有歇阀的开关时时有来微调,厚边关键问题可以从浆料开放性质、微表皮时有隙微调、浆料流速等方面缓解,表层坚硬不碎石有条纹等可以通过不稳定的大块材、降低飞行速度、微调风刀角度等缓解。
亨材-浆料
浆料亨本物开放性与微表皮之关系:理论上陶瓷不远处理过程里,浆料的粘开放性对微表皮视觉效果有一定制约,电以致于谷物,浆料配比分之一,选取粘结剂繁多理论上上相同时所制备的浆料粘开放性也理论上上相同。浆料粘开放性太更为高时,微表皮往往无法连续不稳定的的顺利进行,微表皮视觉效果也受到制约。
微表皮液的匀开放性、不稳定的开放性、楔形和表层周期性受到微表皮液的各种因素特开放性制约,从而直接要求沾料的运动速度。换用方法论归纳、微表皮实验更为高效率、等离子本体力学数学方法更为高效率等研究成果伎俩可以顺利进行微表皮站内的研究成果,微表皮站内就是可以顺利进行不稳定的微表皮,得到匀沾料的陶瓷操控以内。
亨材-铬大块和铝大块
表层侧向:铬铝大块的表层侧向必须更为优于所沾覆的氯化钠的表层侧向,否则氯化钠在亨材元帅难以碎石地铺展开而加剧相比较一比的微表皮运动速度。一个需遵行的原则是:所要沾覆的氯化钠的表层侧向必要比亨材的低5dynes/cm,当然这只是粗略的。氯化钠和亨材的表层侧向可以通过制法的微调或者亨材的表层不远处理来微调。对两者的表层侧向测比率也应当作为一个运动速度更为高度集里的测试项目。
宽度度匀:在类似于刮刀的设计微表皮的陶瓷里,亨材广告牌面宽度度不匀,不会加剧微表皮宽度度的不匀。因为在微表皮陶瓷里,微表皮宽度度通过刮刀和亨材的之时有的时有隙更为高度集里。如果在亨材垂直上,有西南角的亨材宽度度相比较低,那么通过该不远处的氯化钠就不会更为多,微表皮宽度度也不会更为厚,反之亦然。如果从测厚仪里看到如下亨材的宽度度波动,那再次沾出来的表皮厚波动也不会呈现举例来说的偏一比。另以外垂直宽度度偏一比还不会加剧收卷的瑕疵。所以为了避免这种瑕疵,谷物的宽度度更为高度集里很以致于其重要
放电:在微表皮线上,沾在放卷及经过烧结槽时不会在亨材表层诱发很多的放电。诱发的放电有很更为易吸附氢气及烧结槽上的灰层,从而造成微表皮瑕疵。放电在放电的不远处理过程里,举例来说在微表皮表层上不会造成放电管状的以外观上瑕疵,更为情况严重的甚至不会引起意外事件。如果在冷度较低的冬天,微表皮线上的放电关键问题不会更为引人注意情况严重。下降此类瑕疵的最适当办法就是要能保持环境冷度在一个相比较更为高的静止管状态,对微表皮线插头,并且装一些抗放电的装置。
整洁度:亨材表层上的铅不会加剧一些科学开放性的瑕疵,如突点,污质等。所以在亨材的投入生产陶瓷里需相比较好的更为高度集里谷物的整洁度。该网站的表皮整洁烧结是一个相比较适当的去除亨材铅的方法。虽然并不会去除所有的表皮上的铅,但是可以适当的提更为高谷物的运动速度,降低损失。
04
电动车以致于片瑕疵布谱
(1)太阳能电源电源磁铁沾料水银瑕疵
左布带有水银的磁铁片、直布扫描电镜200倍放大布。在合浆、河运和微表皮不远处理过程里,悬浮或大小很小的毛絮物等需注意冒充微表皮液里或落到冷沾料表层,该不远处沾料表层侧向因受以外力制约加剧分子时有交互作用起因改变,浆料起因轻度充分并用,经晒干后构成圆形遗留下来,尾端偏微。
(2)针孔
一是水银诱发(冷凝不远处理过程、输运不远处理过程、微表皮不远处理过程); 水银诱发的针孔瑕疵相比较更为易理解,冷表皮里的水银从内层向表皮表层移至,在表皮表层破裂构成针孔瑕疵。水银主要来自冷凝、沾液输运以及微表皮不远处理过程沾料的流动开放性连带,流平开放性一比,沾料囚禁水银开放性一比。
(3)划痕
不太可能或许:需注意或大致密托在入射时有隙内或微表皮时有隙上、亨材质量不佳,造成有需注意挡住在沾烧结与背烧结的微表皮时有隙上、模具模唇损伤。
(4)厚边
诱发厚边的或许是浆料表层侧向的驱使,使浆料向以致于片楔形无沾覆不远处移至,晒干后构成厚边。
(5)磁铁表层团圆本体致密
制法:球管状氧化铝+SUPER C65+CMC+蒸馏冷水。
两种理论上上相同冷凝陶瓷的以致于片巨观容貌:表层光滑(左)和表层假定大比率小致密(直)。
制法:球管状氧化铝+SUPER C65+CMC/SBR+蒸馏冷水。
以致于片表层小致密放大容貌(a和b):导电剂的团圆本体,从未理论上上充分并用。
表层光滑以致于片的放大容貌:导电剂更为进一步充分并用,匀分布。
(6)砷化镓表层团圆本体致密
制法:NCA+乙炔黑+PVDF+NMP。
冷凝不远处理过程里,环境冷度太更为高,加剧浆料全面开放性水泡静止管状态,导电剂从未理论上上充分并用好,以致于片烧结气后表层假定大比率的致密。。
(7)冷流域以致于片内层
制法:NMC532/carbon black/binder= 90/5/5 wt%, 冷水/盐酸(IPA)溶剂;以致于片表层内层成像照片,微表皮面密度分别为 (a) 15 mg/cm2,(b)17.5 mg/cm2, (c) 20 mg/cm2和(d) 25 mg/cm2,厚以致于片较难显现内层。
(8)以致于片表层缩孔
制法:片管状氧化铝+SP+CMC/SBR+蒸馏冷水。
大块材表层假定加剧污染物致密,致密表层不远处的冷表皮假定低表层侧向周边地区,液表皮向致密周围导弹管状移至,构成缩孔不规则瑕疵。
(9)以致于片表层划痕
制法:NMC532+SP+PVdF+NMP。
入射抬升微表皮,刃口假定大致密加剧以致于片表层漏大块划痕。
(10)微表皮竖条道
制法:NCA+SP+PVdF+NMP。
充分并用微表皮初,浆料吸冷水粘开放性升更为高,微表皮时接数微表皮站内上限,浆料流平开放性一比,构成竖条道。
(11)以致于片未干透周边地区烧结气内层
制法:片管状氧化铝+SP+CMC/SBR+蒸馏冷水。
微表皮时,以致于片尾端周边地区从未理论上上干透,烧结气时沾料起因移至,构成条管状内层。
(12)以致于片烧结气楔形隐没
微表皮构成厚边周期性,烧结气的设计,沾料楔形诱发隐没。
(13)磁铁分切沾料与大块材复归
制法:天然氧化铝+乙炔黑+CMC/SBR+蒸馏冷水,活开放性化学物质分之一96%,以致于片圆盘分切时,沾料与大块材复归。
(14)以致于片分切毛刺
砷化镓以致于片圆盘分切时,由于侧向更为高度集里不不稳定的加剧二次切削构成大块材毛刺。
(15)以致于片分切波浪边
磁铁以致于片圆盘分切时,由于切刀分开比率和气力不合适,构成波浪边和切口沾料脱落。
(16)其他常见微表皮瑕疵有:氢气溶入、垂直波、垂流、Rivulet、扩张、冷水漥等
瑕疵不太可能起因在任何加工段:沾料的配制、亨材的制作、亨材操控微表皮周边地区、更为高温周边地区、裁切、分条、翻倒不远处理过程等等。那一般化解瑕疵的逻辑方法是怎么样的呢?
在从里试到投入生产的不远处理过程里就要优化新产品的制法,微表皮和更为高温的陶瓷,寻找相比较好的或者说宽度的陶瓷站内。 通过一些运动速度更为高度集里伎俩,统计资料工具(SPC) 来更为高度集里新产品的运动速度。通过该网站的风险评估更为高度集里不稳定的的微表皮宽度度,或者视觉以外观上检测管理系统(Visual System)来检查微表皮表层到底有瑕疵。 显现新产品瑕疵时及时微调陶瓷,避免瑕疵重复使用诱发。05
微表皮的匀开放性
其实质微表皮匀开放性是称之为在微表皮周边地区内沾料宽度度或沾胶比率分布的一致开放性。沾料宽度度或沾胶比率的一致开放性越远好,微表皮匀开放性越远好,反之越远一比。微表皮匀开放性并从未统一的范数称之为标,可以用一定周边地区内各点的沾料宽度度或沾胶比率相对于该周边地区的平均沾料宽度度或沾胶比率之偏一比或偏一比分之一来衡比率,也可以用一定周边地区内最大和最小沾料宽度度或沾胶比率之一比来衡比率。沾料宽度度往往用µm透露。
微表皮匀开放性都是用来评分一个周边地区的整本体沾胶管状况的。但在理论上投入生产里,我们往往更为关心在亨材垂直和垂直两个朝向上的匀开放性。其实质垂直匀开放性在微表皮宽度度朝向(或机器垂直)上的匀开放性。其实质垂直匀开放性是在微表皮大小朝向(或亨材行进朝向)上的匀开放性。垂直和垂直沾胶一比值的大小、制约主因及更为高度集里模的设计都有较大的理论上上相同。一般情况下,亨材(或沾胶)宽度度越远大,垂直匀开放性就越远难更为高度集里。根据微表皮该网站多年的理论上经验,当亨材宽度度在800mm都有时,垂直匀开放性往往都很更为易保障;当亨材宽度度在1300~1800mm时,垂直匀开放性常常能更为高度集里好但有一定的平衡性,需相当机械工程的冷水准;而当亨材宽度度在2000mm以上时,垂直匀开放性的更为高度集里在有比较大的平衡性,只有比较少厂家能不远处理好。而当投入生产大批比率(即微表皮大小)增加时,垂直匀开放性就不太可能成为比垂直匀开放性更为大的借助于或过关斩将。关于模切之家Company微表皮之家
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